Магистратура
2024/2025
Специальный практикум по технологическим основам создания наноструктур
Статус:
Курс обязательный (Прикладная электроника и фотоника)
Направление:
11.04.04. Электроника и наноэлектроника
Кто читает:
Департамент электронной инженерии
Когда читается:
2-й курс, 1, 2 модуль
Формат изучения:
без онлайн-курса
Охват аудитории:
для своего кампуса
Прогр. обучения:
Прикладная электроника и фотоника
Язык:
русский
Кредиты:
6
Программа дисциплины
Аннотация
Целью освоения дисциплины является развитие у студентов профессиональных компетенций и навыков самостоятельной исследовательской работы в области производственно-технологической деятельности. В процессе выполнения лабораторных работ студенты познакомятся с методами осаждения тонких пленок металлов и диэлектриков – термическое испарение, магнетронное распыление, напыление с использованием сфокусированного электронного луча; с методы фотолитографии при создании структур с планарными размерами 1 мкм; с электронной литографией для создания тонкопленочных структур нанометровых планарных размеров и с методами травления тонких металлических пленок: химическим , плазмо-химическим, ионным. Освоят первичные методы контроля сверхпроводниковых пленок и структур – измерения критической температуры и ширины сверхпроводящего перехода; определение плотности критического тока. При обучении предусмотрен контроль знаний студентов в виде учета активности студентов в ходе проведения практических занятий и экзамена. Для прохождения курса нужно знание основных законов классической и современной физики; владение простейшими методами решения физических задач и навыками работы с измерительными приборами на уровне бакалавриата МИЭМ.
Цель освоения дисциплины
- Целями освоения дисциплины «Специальный практикум по технологическим основам создания наноструктур» являются развитие у магистрантов профессиональных компетенций и навыков самостоятельной исследовательской работы в области технологий создания наностуктур.
Планируемые результаты обучения
- Владеть методикой анализа и использования технологических операций при создании наностуктур; навыками освоения большого объема информации.
- Знать основные направления совершенствования технологических операций при создании наностуктур с использованием новых материалов; основные понятия квантовой механики; устройство и принцип работы различных оптических элементов, используемых для генерации, регистрации и преобразования излучения; теоретические основы нелинейной оптики, кристаллооптики, волоконной и интегральной оптики.
- Уметь делать правильные выводы из сопоставления результатов теории и эксперимента; использовать полученные знания для описания конкретных технологических операций, решения фундаментальных и прикладных задач; представлять полученные знания о свойствах наноструктур в научном докладе; представлять полученные знания о методах создания наноструктур в научных обсуждениях.
Содержание учебной дисциплины
- 1. Процессы фотолитографии и плазмохимического травления.
- 2. Методы осаждения тонких пленок титана на установке электронно-лучевого испарения BAK-501.
- 3. Методы определения чувствительности и контрастности электронного позитивного резиста.
- 4. Исследование сопротивления сверхпроводниковой пленки при низких температурах.
- 5. Практическая работа по исследованию оптико-волоконных элементов.
- 6. Практическая работа по моделированию оптимальных параметров наноструктур с волноводами с использованием программных средств.
Элементы контроля
- Практическая работа 1 модуль
- Практическая работа 1 модуль
- Практическая работа 2 модуль
- Практическая работа 2 модуль
- Практическая работа 2 модуль
- Экзамен
Промежуточная аттестация
- 2024/2025 2nd module0.1 * Практическая работа 1 модуль + 0.1 * Практическая работа 1 модуль + 0.1 * Практическая работа 2 модуль + 0.1 * Практическая работа 2 модуль + 0.1 * Практическая работа 2 модуль + 0.5 * Экзамен
